温度对化学镀制备钴钨合金薄膜的影响

一、化学镀简介  
化学镀是一种新型的金属表面处理技术，该技术以其工艺简便、节能、环保日益受到人们的关注。化学镀使用范围很广，镀金层均匀、装饰性好。在防护性能方面，能提高产品的耐蚀性和使用寿命；在功能性方面，能提高加工件的耐磨导电性、润滑性能等特殊功能，因而成为全世界表面处理技术的一个发展。化学镀技术是在金属的催化作用下，通过可控制的氧化还原反应产生金属的沉积过程。与电镀相比，化学镀技术具有镀层均匀、针孔小、不需直流电源设备 、能在非导体上沉积和具有某些特殊性能等特点。另外，由于化学镀技术废液排放少，对环境污染小以及成本较低，在许多领域已逐步取代电镀，成为一种环保型的表面处理工艺。目前，化学镀技术已在电子、阀门制造、机械、石油化工、汽车、航空航天等工业中得到广泛的应用。  

二、 钴钨合金薄膜简介  

合金镀层具有许多单金属镀层所不具备的优异性能，它与单金属镀层相比，常具有较高的硬度，致密性，耐腐蚀性，磁性等等。因此，近年来随着科学技术的发展，合金镀层越来越受到人们的青睐。由于金属钨和钴都具有高熔点、高硬度、高耐蚀耐磨性、良好的抗高温氧化和抗拉强度等优异性能，人们发现Co-W合金镀层结构致密、硬度高、耐热性好、耐磨耐蚀性能优良。除了这些优点以外，最重要的是Co-W薄膜具有很好的磁性能，不仅可以用来作为超高密度垂直磁记录的介质，而且还可以代替电子设备中的微磁体。